二手 ULTRA OPTICS MR3 #293820553 待售

ULTRA OPTICS MR3是一种光刻设备,它为精确制造光掩模、晶片和其他光电器件提供了先进、高效的光刻解决方桉。它是微电子工程、光学元件制造、光电器件和系统开发领域的理想应用。该系统采用专有的机动化平台，对工作材料进行高精度定位，并采用独特的浸入式光刻技术，以实现最大的曝光精度。该单元还提供对光刻参数的全面管理，即使在低生产成本下也能确保高分辨率输出。高度精确的运动机床和先进的光刻参数相结合，使MR3成为满足高精度或大面积光刻需求的理想解决方桉。对于晶片处理应用，ULTRA OPTICS MR3配备了545 nm激光扫描仪和355 nm He-Cd激光器，每个激光器可高达20 Mpixels/s扫描速率，扫描分辨率高达10 µm，扫描面积可达60 mm对角线。使用该工具,用户可以轻松编程曝光时间和激光跟踪速度,以匹配模式的复杂性。此外,资产还能够单独调整激光功率,以确保图样的不同部分能够准确曝光,而不会遇到正在处理的材料中的任何充电/放电问题。MR3还具有高动态聚焦控制功能,以确保在阵列化挑战中具有稳定的扫描特性。此功能具有高精度可变聚焦光学元件,能够在扫描过程中将过度聚焦和不足聚焦的信号编译到工作材料上。它还为ULTRA OPTICS MR3平台的自动对焦模块提供连续反馈,从而实现优化的阵列精度。此外，内置的图像失真去除算法消除了在曝光过程中不需要的模式扭曲。该模型采用复查扫描对准策略和可编程缺陷密度管理设备，提供了有效的缺陷管理。此系统会检查、识别和标记扫描图像中的任何潜在缺陷,以便能够及时解决这些缺陷并对其进行适当补偿,从而获得更成功的操作。MR3光敏装置是微电子光刻的可靠而有力的解决方桉。该机提供高精度成像和生产敏感光电元件，其电动级其强大的平台和控制算法保证了精确的模式。多重曝光技术、成像算法以及小型化和缺陷管理工具使ULTRA OPTICS MR3光掩模、晶圆和光电器件原型制作的理想并行处理解决方桉。