二手 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102 #9124003 待售

ID: 9124003
晶圆大小: 6"
优质的: 2000
UV curing oven, 6" UV lamp lamp intensity 25 mW/cm2 Wavelength: 254.7 nm Exposure time 35 sec 2000 vintage.
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102是为开发直接书写光刻工艺而设计的光刻设备,常用于精密光刻应用。该单元是一个完整的、集成的光刻胶系统,旨在在基板或晶片上产生可重现的、高分辨率的微结构。它能够产生精确、坚固的结构特征,并在1 μ m至5 μ m的大小范围内形成清晰的模式。该单元的设计目的是优化曝光精度、稳定性和线性度,从而能够以最小的工艺步骤生成自信的特征。USI UH 102采用了两级抗拒工艺;第一阶段是抗蚀剂材料的热沉积和成型,第二阶段是抗蚀剂经过一系列显影剂步骤后处理。该装置有一个精确的加热机,它可以使薄膜均匀沉积,并具有一个数字控制器,其显示屏为温度选择提供了直观的界面。此外,设备的曝光范围最大为50mW/cm2,分辨率最大为0.1 μ米。该工具还具有一个内置的空间分辨率测试资产,以及一个用于一致流程输出的曝光后监测模型。该设备能够通过评估薄膜表面对比度来检测在抗蚀剂显影过程中薄膜厚度的任何变化。ULTRON SYSTEMS INC UH 102还配备了精密计量系统,允许测量1 μ m至5 μ m范围内的小特征,同时也提供了对基板微几何的了解。UH 102具有自动抗蚀剂涂层单元,旨在提供均匀的抗蚀剂薄膜厚度,并具有自动曝光后显影机,可对其进行编程以一致提供一致、精确的曝光后模式。此外,该装置还具有高精度的光刻胶分配工具,易于调节,能够提供均匀的分配速率。总体而言,ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102是一种高效可靠的光刻材料,它提供高精度光刻工艺,可产生可重复的高分辨率图样,且工艺步骤最少。该模型的众多功能,如数字控制器、自动抗蚀剂涂层、曝光后显影剂和计量设备,使其非常适用于精密光刻应用。USI UH 102是一种可靠、精确、经济实惠的光刻工具。
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