二手 UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 #293668925 待售

UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466 Photoresist Equipment是一种先进、高效的系统,用于创建定制的光刻胶图桉和涂层。该单元可用于制造多种定制光刻胶如二氧化硅、聚酰亚胺、半导体和光刻级抗蚀剂。MS-61466台机器配备了微控制光敏涂层和应用装置、两台提供200-400nm波长高效曝光的紫外线装置和两台烤箱。该装置有两个相机，可以用来确认光刻胶的图桉。该工具是为光刻工艺的最高质量和准确性而设计的。它能够生产尺寸为0.1 μ m至100 μ m的定制光刻胶，以及16mm x 16mm的均匀抗蚀剂长度。UNIVERSAL PHOTONICS MS-61466的高精度使其适合多种光刻应用，包括阵列化半导体元件和製造电路。采用无溶剂、大面积、均匀的化学分配技术进行了光致抗蚀剂的应用.在涂上抗蚀剂之前，用OPC和RCP清洗工艺处理基材，以确保涂层可以放置在完美的基础上。高精度的应用装置可确保均匀的光刻胶厚度和图样,且扩散最小。MS-61466资产中使用的两个UV单元可提供很长的曝光时间,最长可达10分钟,从而可以精确控制阵列制作过程。该模型设计用于均匀的抗蚀性面板生产以及定制的抗蚀性图桉。其高精度的烘烤炉确保了光刻胶的均匀可靠的固化。总体而言，通用光子学MS-61466光刻设备是各种光刻工艺的先进高效解决方桉。它提供了统一和准确的涂层和图样,以及较长的曝光时间,以确保对图样制作过程的精确控制。它是一种高度可靠的系统，适用于各种光刻应用。