二手 VERTEQ 1600-55M #9241976 待售

VERTEQ 1600-55M是在微电子、纳米级器件光刻应用中用于光刻剂的多功能、强大的曝光设备。该系统为一系列应用提供了多种特性和功能,包括光掩模生产、MEMS、半导体器件制造、纳米级制图和MEMS制造。1600-55M利用一个6英寸的卡盘和一个55英里的石版师分辨率场来确保获得准确和可靠的结果。卡盘的表面是平面化的，以达到非凡的平坦度，形成一个均匀的基板，以优化均匀性和图样曝光的精度。此外，该单元还配备了高精度的X-Y级，可以准确定位和传递图像穿过基板。此功能可对任何给定的曝光进行精确的图像配准,并确保光刻胶是均匀的。该机器还配备了集成光束定位器，允许用户在基板上精确对齐图像投影仪。这可以实现精确的掩码对齐,并使用户能够轻松地将图像从一个晶片匹配到另一个晶片。该工具由一个创新的软件包提供支持,该软件包允许自动存储、检索和分析图像。此软件包允许用户快速高效地设置和操作资产。VERTEQ 1600-55M采用了最先进和坚固的基于UV LED的曝光源,其设计目的是提供最高质量的曝光结果。这是发射254 nm的短波长UV LED光源，是曝光光刻胶的最佳波长。这样即使在低剂量下也能使光刻胶曝光的参数具有重复性和稳定性。此外,该型号还有两种不同的镜头组装选项：一种用于光掩模应用,另一种用于无芯镜头,用于亚毫米分辨率。无芯镜头具有一毫米特征片尺寸的分辨率能力和高达45度的摆角。所有这些特性使1600-55M成为各种光刻应用的理想选择。