二手 VERTEQ 1600-55M #9245629 待售

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment是一种先进的光刻系统,用于各种基板上的光刻图样。这个单元是一个最佳的解决方桉，用于暴露大基板，以及暴露高分辨率模式低至10 μ米。它采用基于LED的光源,具有精确的曝光均匀性和分辨率,可在6英寸的主动扫描区域内产生一致的照明强度。它支持广泛的波长范围，只过滤那些匹配所需的遮罩图像的波长和偏振器状态的照片二极管。它与多种底物材料兼容，包括的有​​、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、1600-55M有五种用户友好的操作模式-光刻开发模式、自动对齐模式、多重曝光模式和图像调整模式-使用户更容易配置和校准所需的设置。光刻胶显影模式在图样化之前准备基板，自动对齐模式自动对齐基板以进行精确曝光。多重曝光模式支持在同一基板上同时曝光不同模式。此外,图像调整模式还提供了对阵列参数的更细粒度控制。VERTEQ 1600-55M有一个可编程的精密扫描机,可提供高达10 μ m的模式分辨率.它具有可编程的聚焦和绘制速度与微调旋钮精确的光学图样。它配有高分辨率CCD相机，用于对掩模图像的精确定义。1600-55M还有一个内置的掩码库和一个实时自动聚焦功能,使用户能够快速轻松地为每次曝光设置工具。此外，资产还配备了调平模型，以确保所有面膜都与基板精确平行。该设备还具有先进的安全功能，例如接近传感器，以确保扫描的图像不会因振动而漂移或模煳。此外，该系统还具有用户编程格式和易于使用和高效操作的用户友好控制面板。VERTEQ 1600-55M Photoresist Unit凭借其高分辨率、精确的曝光一致性、广泛的功能和用户友好的界面,为用户提供了高分辨率、精确的光刻的最佳解决方桉。这种坚固的机器是各种光刻图样应用的理想选择。