二手 VERTEQ 1600 #293810265 待售

VERTEQ 1600是一款最先进的光刻设备，旨在促进半导体行业的光刻应用。该系统采用高强度的紫外线光源，在亚微米电路元件的制造过程中，精确地曝光起蚀刻掩模作用的光刻膜。该单元具有4k像素尺寸和大的8 "x 8"分辨率面罩，允许高质量的光刻性能用于曝光64 mm x 64 mm基板。VERTEQ还利用Quad-Wave成像机，通过以线性或螺旋扫描模式旋转四个曝光光波来提供高精度曝光，达到极高质量的图像。该工具还配备了高精度的控制资产，以确保一致的结果，并且可以保持7-10 um的x-y位置公差和25-50 nm的重复性焦点控制。它还具有全自动操作模式，允许用户编程曝光参数和重复。1600包括多项安全特性，包括防止暴露于紫外线的互锁模型、确保晶圆被异光屏蔽的盖板、以及确保精确处理的高度调节传感器。该设备设计易于使用和维护，体积小巧，重量轻，便于运输到不同的制造地点。它还具有高能效，旨在尽量减少对昂贵消耗品的需求。总体而言，VERTEQ 1600是一种先进的光刻胶系统，旨在满足先进半导体产业的需求。该单元为用户提供了许多好处,包括高精度曝光子系统、自动化操作、用户友好型设计和安全功能。