二手 VERTEQ 1600 #9280736 待售
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ID: 9280736
Spin Rinse Dryer (SRD)
Membrane control panel
Control box
Resistivity monitor
Static eliminator
Automatic rinse cycle
Emergency power: Off
High pressure D.I water valve
Capacity: Wafer carrier
Facility:
N2: 6-6.5 cfm under 50 psi
DI: 1.75 gpm under 25 psi
Drain: 1.1/2" NPT pipe
Power supply: 120 VAC, 50/60 Hz, 15 A
Rotor Balance:
With cassette
(6) D.I water nozzles
Hot N2 dry
Door seal
Process capability and parameters:
Rinse speed
Rinse time
Dry speed
Dry time
DI Resistivity monitor.
VERTEQ 1600是一款光刻设备,旨在为电子、光电和其他MEMS(微机电)电路开发复杂、高精度的光刻模式。该系统由高分辨率相机、光源和光刻工具组成。1600的相机能够成像多达1600万像素,每种颜色12位(3个通道),并配有内部照明装置。该相机采用双掩模对准机,利用网格图样精确对准标称精度为+/-5 um的图桉帧。这种精确度允许高细节,低损耗成像,这是理想的MEMS和光电应用。VERTEQ 1600的光源是一个400瓦的短弧灯,提供一个均匀的,高强度的照明。该工具还包括一个双光滤波资产,以允许在曝光时间和光谱范围的灵活性。这允许用户根据特定的要求和应用来调整照明和曝光时间。1600的光刻工具便于精确曝光光掩模。它利用集成的步进电机和独立的控制器,方便在所有方向上进行全面的三维移动,从而实现高精度、可重复的特性,以最高+/-7.5 um定位精度的任意角度进行制作。光刻工具还包括一个聚焦模型,以确保曝光的最佳保真度。VERTEQ 1600是一种先进的光阻设备,设计用于开发复杂的电子和光电电路模式。除了集成的光刻工具外,它的高分辨率相机、双掩模对准系统和400瓦短弧光灯还提供精确的曝光,使高细节、低损耗成像成为MEMS和光电应用的理想选择。
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