二手 VERTEQ 1800-6AL #9255500 待售
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ID: 9255500
晶圆大小: 6"
优质的: 1994
Spin Rinse Dryer (SRD), 6"
Does not include controller and cables
1994 vintage.
VERTEQ 1800-6AL是一种全自动化学机械抛光(CMP)设备,设计用于半导体器件制造的光刻材料。该系统采用集成控制控制台和自动化进给单元,可容纳各种晶圆尺寸和工艺规格。其光刻平面化设计在整个晶片上提供了更加均匀的表面光洁度,从而提高了产量和器件性能。CMP机采用化学机械抛光(CMP)技术,在光刻晶片上实现精确的表面平面化。它采用两相工艺,从化学蚀刻开始,以降低光刻胶层的表面粗糙度,然后用物理抛光来平整光刻胶表面。该工具配备了可以改变皮带张力的压板配置,以提供对晶圆表面接触压力的精确控制。资产反馈回路可确保整个晶圆的均匀抛光速率,从而提高工艺均匀性。1800-6AL使用集成控制控制台来管理CMP流程。它有一个自动进料模型,在处理过程中根据需要进料和重新装入晶片,并且配备了自动化抛光参数,可以很容易地针对不同类型的光刻晶片和所需的工艺进行调整。该设备还设有一个内置端点控制系统,可监测CMP工艺的端点,并根据需要调整工艺参数。该装置是专门为在半导体器件制造中与光刻晶片配合使用而设计的。它非常可靠、易于使用,并具有一系列自动安全功能,例如联锁和警报,以保护操作员和设备。它是晶片上光刻层平面化的一种经济高效的解决方桉,其均匀的光洁度降低了屈服损耗,提高了器件性能。
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