二手 VERTEQ 1800-6AL #9255509 待售

製造商
VERTEQ
模型
1800-6AL
ID: 9255509
晶圆大小: 6"
优质的: 1997
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" Does not include controller and cables 1997 vintage.
VERTEQ 1800-6AL光阻设备是一种高精度、自动化、灵活的PECVD系统,用于半导体、光电和生物医学元件的制造和加工。利用先进的管式加热室,该装置可以精确控制光刻胶的化学性质、沉积速率和机器的整体性能。1800-6AL工具利用多种气相沉积技术,沉积具有良好薄膜均匀性和厚度控制及可重复性的光致抗蚀剂保形薄膜。它使用具有交流源、磁控管溅射和高压PECVD腔室的多部分资产进行操作,从而优化操作以处理所需的薄膜结构。交流电源用于在放电室中产生电压控制的电场,以磁性激发高压过程气体。高功率磁控管溅射源被用作阳极,产生高能汽化液滴的受控通量,这些液滴与反应室内的过程气体反应。过程气体在等离子体中的反应将液滴分解成光致抗蚀剂,以薄膜的形式沉积在基板上。VERTEQ 1800-6AL模型操作极为方便,具有专用控制器,用户可以调节工艺气体的流量、压力和温度,并监控目标膜厚度的沉积速率。基板的温度也可以使用专用加热器精确控制。凭借这些高度先进和可配置的特点,该设备能够以最小的后期处理,准确可靠地沉积厚度、粒度和均匀度一致的光刻胶薄膜。1800-6AL还具有自动调平的便利性,使操作员能够在项目之间有更快的基板转换时间和更快的周转时间。这种特性对于较大的光刻胶基板特别有用,允许沉积板的自动水平调整和基板对准,减少手动处理。这大大降低了人为失误的风险,简化了生产流程;最终实现更快的吞吐量和提高生产率。综上所述,VERTEQ 1800-6AL是一种先进的PECVD系统,具有良好的薄膜均匀性和精确度,提供高精度的光刻沉积自动控制。该装置具有自动定级、监测基板温度、精密压力和温度控制等特点,是广泛应用于半导体、光电和生物医学器件制造加工行业的鲁棒工具。
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