二手 VERTEQ 1800 #293760299 待售

VERTEQ 1800是一种光刻设备,与其他光学投影系统相比,其产量-通量提高高达25%。它是一种通用的单曝光工具，适用于一系列的细线光刻工艺，包括单和双图样。该系统提供5x-80 x的宽放大倍数,具有高分辨率和稳定性。1800系列光阻系统具有高功率和高分辨率的二进制投影光学,可提供极高效的0.165微米特征尺寸功能。最多可有9个激光二极管光源提供16兆瓦的UV功率以提高吞吐量。光敏装置还具有BCD、模模和晶片对准技术。VERTEQ 1800的自动化模块具有先进的对齐功能和基于模式的优化,以提高过程的重复性和准确性。该机器提供了一个自动化的多用户界面（MUI），可用于多个操作和增强吞吐量。此外，软件还支持反向音调曝光（RTE），用于精确的模拟曲线分布。1800还具有晶圆上的电压调整功能,以最小的停机时间快速调整晶圆上的多余电压。此外，该工具还设计了几个智能传感器插槽，用于监测温度、功率、剂量和晶片对晶片的对准。这种对环境的警惕监测保证了晶片的平面化，更快的液滴沉降和最小的污染。资产还配备了精确的几何迭加能力，在这种能力中，微观模块可以检测到模式，并将其对准精确的位置，即使大部分区域扭曲。此外,光刻胶模型中内置的MEMS扫描仪技术可确保无循环延迟时间,并且其高达400毫米/秒的宽扫描速度可确保均匀的特征覆盖器。总体而言,与传统系统相比,VERTEQ 1800光刻胶设备提供了优化的稳定性、产量-吞吐量改进、自动化MUI和高分辨率等功能。这使得光刻系统成为生产细线光刻应用的理想选择。