二手 VERTEQ MEGASONIC #9187710 待售

VERTEQ MEGASONIC是为PCB和微电子应用而设计的光阻设备。它采用专门的膜技术，将一层薄薄的光刻胶附着在几乎任何底物上。这种光致抗蚀剂然后通过遮罩或直接暴露在光线下，这导致它在某些地方暴露在光线下变硬。光致抗蚀剂的这种硬化使得这些所需的曝光区域能够被蚀刻掉，而未曝光的区域则保持完整。MEGASONIC光致抗蚀剂系统对水、酸和其他化学物质具有很高的抵抗力,并且还可以承受极端温度。这使得它非常适合于高温处理和其他具有挑战性的应用，在这些应用中，必须精确地从形状独特的元件中去除材料。利用该单元中使用的MEMS技术，可以提供小到亚微米的焦点点。VERTEQ MEGASONIC机器还允许使用不同类型的光掩模，允许将设计精确且可重复地转移到光刻胶中。这使得该工具适用于需要严格公差和可重复性的生产应用。资产由几个组成部分组成。在最高级别上，它们包括光源、光掩模、光敏桶、预清洁工艺、光掩模掩模站、成像设备、后清洁工艺和基材。模型的光源驱动设备,通常是紫外线、红外线或电子束,具体取决于应用。同样重要的是,要为所需的作业具有正确的功率、强度和斑点大小。光掩模用于将光引导到光刻胶中并允许精确成像。它们通常由一系列关于透明的模式组成，以将光引导到所需的区域。感光鼓是一种装置，照相机放置在该装置上以实现成像。滚筒以高速旋转，允许曝光时间小于一秒。预清洁过程在光致抗蚀剂表面暴露之前清除其表面的任何颗粒或污染物。这样可以确保不会留下任何颗粒或杂质来影响图像的质量。成像站用于将光掩模和基板引导到成像路径中。成像站通常配有检查摄像机，以确保在使用光致抗蚀剂之前有质量的曝光或清洁的基板。清洁后过程用于清除过程中可能在暴露后残留在耐热材料表面上的残留物。这对于保证光刻胶层完全没有缺陷是必要的。用于基板的材料与系统的任何其他组件一样重要，因为它在暴露过程中需要能够承受温度。根据应用的不同，不同的材料如聚合物、复合材料或金属可能是合适的。总之，MEGASONIC光致抗蚀剂单元是高精度应用的理想选择。VERTEQ MEGASONIC机以其专门的膜技术和耐材料，是许多PCB和微电子应用的可靠选择。