二手 VERTEQ ST600 #9096618 待售

VERTEQ ST600是为微电子工业中使用的晶片上光敏树脂的精确激光束曝光而设计的光阻设备。它基于步进原理,具有高达6英寸的磁场大小和高达600 mm/s的步进运动速度。该系统还配备了一个集成电源,可调节功率水平和脉冲长度,以便对曝光过程进行精确控制。该单元由多个组件组成，包括带有集成激光源的步进器、对象表和晶片支架。步进器和激光源与标准激光源兼容，如HeNe、CO2和Ar设计。步进器可在晶片表面上创建超精细图像,最小特征大小为0.3 μ m。对象表用于在曝光期间将晶片固定在适当的位置,而晶片支架则用于将晶片固定在适当的位置。该机还设有集成成像和控制软件，允许操作员对步进器和激光源设置进行编程、调整和观察。该软件允许用户轻松创建图像，调整曝光和激光点大小，以及程序曝光参数。此外,它还允许操作员优化工艺参数,以便在晶圆上创建所需的模式。VERTEQ ST 600还有一个集成真空工具，确保精确成像。它旨在使晶片在曝光过程中保持平坦和到位，在晶片上提供精确和一致的模式。晶圆也自动对准步进检测器的中心，消除操作过程中任何潜在的失准。总体而言，ST600是光敏树脂在晶片上的高度先进和可靠的光刻资产。它提供高达6英寸的场大小和高达600毫米/秒的步进运动速度，使其适合高速操作和精确的激光束曝光。该模型还具有集成成像和控制软件，以及集成真空设备，可实现可靠和准确的曝光结果。