二手 VON ARDENNE Pia Nova #9279044 待售

VON ARDENNE Pia Nova是一款由真空涂层设备制造商VON ARDENNE开发的光阻设备。它是一种光致抗蚀剂，用于半导体晶片上纳米结构的生产。Pia Nova系统利用先进材料和生产技术相结合，使光刻胶在晶片上的超高分辨率沉积成为可能。VON ARDENNE Pia Nova光致抗蚀剂单元使用一种称为"Creationthrough Subtractive Deposition （CSD）"的专有技术。这使光致抗蚀剂能够以最少的废物和非常薄的均匀的沉积沉积。CSD过程涉及使用由多层薄膜组成的"母体"堆叠光刻胶层，其中第一层是PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）薄膜。然后，这种母体膜被暴露在等离子体光束中，该等离子体光束会蚀刻下层以定义所需的纳米结构。经过蚀刻过程后，Pia Nova机再可以用一层薄而均匀的光刻层填充蚀刻的纳米结构。将会沉积的抗蚀层由使用者决定，VON ARDENNE Pia Nova工具可以将抗蚀层沉积在薄的连续层或是多个较小、较厚的层中。沉积多层光刻胶的能力允许复杂的设计和制造高分辨率组件。Pia Nova资产使用与托盘相关的专利处理模型，提供了稳健而精确的抗拒应用。托盘对过氧化物和环保物质具有抗性，这意味着它们可以在广泛的行业中使用。它还使用真空沉积技术，以确保光致抗蚀剂的沉积在整个晶片上均匀一致。最后，VON ARDENNE Pia Nova设备提供全热控制，意味着用户在应用过程中能够精确控制抗蚀层的温度。这保证了光刻胶层在整个晶片中以一致甚至均匀的厚度沉积，进一步提高了纳米结构的质量和精度。Pia Nova光致抗蚀剂系统是一个先进的单元，为用户提供一种精确、可靠、经济的方式，为半导体行业生产高质量的纳米结构。VON ARDENNE Pia Nova机器结合了先进的材料和生产技术，是生产高精度、高精度纳米结构的理想机器。