二手 VPT Argus 58 #9199501 待售
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ID: 9199501
Optical coater, 58"
Chamber:
Width: 58"
Depth: 28"
Water-cooled chamber
Stainless steel
(2) Opening doors
Integrated stand
Vacuum pumping system:
Pumping system for chamber includes:
EDWARDS GXS 160/1750 Dry pump and blower package
(2) PFEIFFER ALCATEL ATP 2804 Maglev turbo-pumps
CTI CT10 Cryo pump
ADIXEN ALCATEL ADS-501 Dry pump \ blower package
Substrate fixture system:
(6) Diameter planets, 16"
Process system:
(3) MAGNETRON DC Sputters, 8"
(3) ADVANCED ENERGY 10 kW power supplies
(2) Sputtering cathodes co-sputtering function
(3) SIERRA APPLIED SCIENCE INC Sputtering cathode, target 8" diameter (203.2 mm)
CCR Cobra DN 400 RF-Plasma Source, 16"
ADVANCED ENERGY 13.56 MHz RF Power supply 5.5 kW
(4) VPT 2 kW Quartz lamp heaters
Type J thermo couple probe
INFICON XTC-3 With (6) crystal heads
Ion current monitoring: Faraday cup
Power systems includes:
Integrated power distribution enclosure
PC \ PLC Based control system:
Factory talk Human Machine Interface (HMI)
ALLEN BRADLEY Logix PLC controller
Utility requirements:
Power supply: 208 VAC, 65 kVA, 50/60 Hz.
VPT Argus 58是为晶圆制造和微光刻应用而设计的光刻设备。该系统能够产生分辨率高达传统工具五倍的高清图像,同时提供高可重复性和超低紫外线曝光时间。该装置能够在低抗压和低紫外线暴露水平下运行，从而能够精确绘制微观和纳米级特征。该机器利用氦硼激光器诱导光敏分子以受控模式沉积到晶片上。这就产生了高度准确和一致的模式，这对于微光刻应用至关重要。该工具非常适合于各种任务，如光刻、激光制图和抗涂层。资产包括用于晶圆对准和精确抗蚀剂沉积的12英寸步进/扫描仪。它还配备了用于精确光束控制的计算机控制激光束光斑大小模型，以及一个基于软件的光束扫描设备，用于扫描晶圆表面的抗蚀剂。这允许亚微米级的抗蚀剂沉积分辨率。Argus 58还包括氦霓超分辨率象限特征等可选特性，使图桉可以在小于10µm的间隙内进行剪接；使晶片精确对准的自动光学定心系统；一个交叉晶片同步特征，以便更好地定位感光层；和Opticlock单元，用于精确的阵列。总体而言，VPT Argus 58是用于高清微光刻工艺的可靠工具。它的特点使得能够精确和精确的图样，从而产生更高的产量晶片和提高生产率。该机使用简单，与大量光敏材料兼容。Argus 58是任何半导体设备的宝贵工具,是生产最先进的集成电路设备的必备工具。
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