二手 WAFER PROCESS SYSTEMS 1222-327 19/21 #9216432 待售
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ID: 9216432
优质的: 2003
Acid bench
Sink with faucet: 12" x 26.5"
Chemical bath: 10" x 9"
Holding tank: 15" x 12"
Work surface area: 14" x 30"
EPO-100 Controller
Spin coater module WS-400A-6NPP/LITE/IND
With LAURELL controller
DI Bubble controller
Holding tank alarm monitor controller
Hot plate timer
Hot plate stirrer & temperature controller
(2) Bottom drawer storages for chemicals and supplies
2003 vintage.
WAFER PROCESS SYSTEMS 1222-327 19/21光刻设备是处理硅片的半自动工具。该系统能够执行从定向蚀刻和等离子体蚀刻到光刻的各种过程。它提供了一种在单个硅晶片上创建多层半导体器件的可重复、准确和经济的方法。该1222-327 19/21包括一个生产阶段，用于对带正电荷的晶片施加光致抗蚀剂。光致抗蚀剂是一种化学物质，为了产生光化学效应而施加在硅片表面。它一般是光敏的，暴露在光线下变得不溶解，允许达到特定的屈服。一旦光致抗蚀剂被施加到晶片上并暴露在光源下，晶片要么被转移到使用高压水喷雾冲洗掉不需要的抗蚀剂区域的振荡喷雾柜中，要么转移到使用真空去除残留抗蚀剂的真空泵machian上。在洗涤过程之后，使用含有苯的溶剂将晶片从抗蚀剂中剥离出来，这些溶剂以自动旋转的方式施用。有时在晶圆处理阶段使用热处理。这包括将晶片放在烤箱或炉子中进行回火。这样做有多种原因，例如使其更耐应力或改变电气特性。一旦光致抗蚀剂和去除过程完成，就会使用薄膜沉积机在晶片上增加一层光致抗蚀剂。这种工艺一般会形成一种保护性涂层，使许多额外的程序步骤得以进行。1222-327 19/21单元利用高度复杂的编程,操作员必须能够监控每个进程的发生。为了保证高质量的结果，机器进行了包括工具测试、检验测试、电气测试在内的一系列测试。通过进行这些测试,可以快速发现并解决任何问题。WAFER PROCESS SYSTEMS 1222-327 19/21是任何半导体制造工厂必不可少的工具。它能够以准确和可重复的方式创建多层设备。此外，资产遵守严格的生产流程，以确保达到最高水平的产品质量。
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