二手 WERNER MATHIS LFT #9069946 待售

WERNER MATHIS LFT是一种用于微电子器件制造的光刻胶系统。它以夹层结构为基础，夹层结构由两层组成：负的苯并三唑聚合物光致抗蚀层和酸敏化的LFT层（又称潜伏功能厚度）。这种组合充当了下面的光致抗蚀剂层和晶圆表面之间的守门人。当暴露在紫外线下时，酸敏化的WERNER MATHIS LFT层发生反应，形成粘性薄膜，作为下面光致抗蚀剂的掩模。当UV光通过光掩模施加到晶片上时，根据光的强度可以有选择地暴露或覆盖光阻层的反应性区域。然后调整光掩模的位置,使其在晶片上的每一个器件层都能正确阵列。聚合物光致抗蚀剂一旦经过显影烘烤过程，就会在晶片表面形成一层薄层，类似于最初在光敏层上形成的图桉。一旦光致抗蚀剂暴露并固化，一层薄薄的酸敏LFT就会留在后面。这充当了光刻胶和晶圆表面之间的保护性"闸门"。这种对底层的绝对疏忽确保了设备元素的精确模式。因此，这种光致抗蚀剂系统被广泛应用于各种行业，特别是与半导体器件制造有关的领域。与其他光阻系统相比,WERNER MATHIS LFT系统提供了卓越的分辨率和鲁棒性。使用LFT和聚合物的特定组合也能使光刻胶和底物之间有良好的附着力。此外,由于开发过程的相对速度,WERNER MATHIS LFT光致抗蚀剂系统能够在短时间内精确绘制大批量晶片的图样。总体而言,LFT光刻胶系统是各种电子设备制造应用的理想解决方桉。将酸敏化的WERNER MATHIS LFT和技术先进的聚合物结合起来，提供了出色的分辨率、良好的附着力和快速的发展过程--所有这些都使其成为一系列从事微电子器件制造的行业的理想光刻系统。