二手 YSYSTEM Ywafer mapper GS2 #293627974 待售

YSYSTEM Ywafer映射器GS2是由YSYSTEM设计的光刻设备。它是为在大面积基板上精确对准和曝光薄膜光刻胶图桉而设计的。Ywafer mapper GS2是一种具有先进功能的微控制评估系统，具有很高的稳定性和无与伦比的性能。YSYSTEM Ywafer mapper GS2是一个最先进的光刻设备,能够以高精度和高精度生产高质量的光刻图样。它采用先进的对准方法，采用激光二极管定位机，可以在任何尺寸的基板上精确对准。该工具带有一个晶片框架，能够容纳四个尺寸不超过200毫米的晶片。静电台可确保光刻胶稳定且低振动地暴露在基板上。Ywafer成像仪GS2的光学组件由高分辨率成像镜头和快门资产组成。快门模型能够以快速的≤1ms曝光时间将光刻胶图样曝光到晶圆上。曝光时间是高度可调的，允许暴露于广泛的强度水平。YSYSTEM Ywafer映射器GS2使用一个完全封闭的计算机控制的曝光室和一个4区加热设备来控制曝光环境。先进的温度控制系统使用热电偶，以确保均匀的曝光环境和光刻胶图桉在晶片整个区域的均匀曝光。该单元的集成控制器允许轻松操作和强大的成像能力。控制器配备了基于Web的数据管理机器，以便于配置工具设置和处理曝光数据。YwaferMapper GS2是一种高效、可靠的光刻资产，可提供高分辨率光刻胶在大面积基板上的精确曝光。激光二极管定位模型、快门设备和4区加热系统等先进的控制特点确保了光刻胶的均匀、高质量的曝光。