二手 YUASA LPD-182 #293748586 待售

YUASA LPD-182是一种高质量的光刻设备，主要用于晶圆技术，如微电子学、生物技术和光刻。它由三种成分组成：光刻级光刻胶、抗蚀剂带状溶液和显影剂/溶解溶液。抗蚀剂带溶液设计用于去除表面污染物，而显影剂/溶解溶液则去除光致抗蚀剂和不需要的副产物。LPD-182光刻系统由于其低kV光刻方法和低温高质量晶片而具有很高的可靠性。光致抗蚀剂单元的短波长使其能够创造出可以很容易地解析和阵列到基板上的特征。该机特别有效地产生尺寸在1-5微米左右的高质量、小规模特征，非常适合微电子应用。另外，YUASA LPD-182工具由于其低温低kV光刻方法，不需要石刻，节省时间、能量和成本。LPD-182光敏资产提供高通量、清洁、均匀性和提高的光敏性。此外,该模型采用低kV光刻方法,使基板表面的图样更容易绘制,并具有更大的工艺灵活性。抗蚀剂带溶液有利于均匀的表面清洁，去除玻璃和硅片上的有机表面污染物。然后将晶片预先烘烤，以除去残留的污染物，并使表面准备成型。然后通过分配机器进行光刻胶分配。它首先在基板上分配极少量的光刻级光刻胶。这是通过将分配头与基板接触，然后在保持恒定接触的同时快速移动它来完成的。这种分配方法最大限度地减少了晶圆的光刻涂层，从而减少了图样的不均匀性。底物随后暴露于一个光源，从而触发光致抗蚀剂分子的交联。收集到的光子会导致光致抗蚀剂分子的能量增加，从而削弱它们的键并允许它们交叉连接。这种交联也因基板的交替旋转而增强。暴露后，基材再用显影剂/溶解溶液洗涤。显影剂/溶解溶液除去光致抗蚀剂以及任何其他有害副产物。YUASA LPD-182光致抗蚀剂设备中采用的减压步骤也提高了基板与光致抗蚀剂之间的附着力。最后，用后烘烤来提供光刻胶的额外硬化。LPD-182系统的烘烤温度可以根据所需的图样特性来调整。由YUASA LPD-182单元获得的垂直线、锐边和高产率使其成为微电子应用中备受追捧的光刻机。