二手 ZEISS A20 #9259775 待售
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ID: 9259775
AR Coater system
(30) Lenses per 70 minutes cycle
Wash line
DESPATCH Oven
Flow booth
Anti-static gun.
蔡司A20光刻设备是一种用于纳米级光刻应用的高性能模块化光刻机。它是生产高密度电子(HDI)电路和存储芯片以及先进材料研究的理想选择。A20能够通过分辨率、特征捕捉和精确度将成像功能的大小降低到12 nm,使其成为最高质量规格的顶级光刻系统之一。蔡司A20单元配备了先进的成像光学器件和用于更高分辨率图像的微图桉发生器。该机器包括一个直接曝光精细对准(DFFA)工具和一个真空曝光区域,能够在直径不超过15英寸的6英寸晶片和其他基板上连续成像。自动化控制资产提供了高可重复性和改进的周期时间,自动化晶片加载和卸载。此外,直观的用户界面使模型易于所有用户使用。该设备配备了许多功能,旨在提高生产的精度和精确度, 包括晶片在基板上的精细对齐的元级, 一个自动特征识别系统,帮助减少模式失真, 以及一台高性能比较显微镜和一台板载计量器,可显示具有低噪声水平的特征位置、方向、大小和形状信息。该机器还能够进行元阶段扫描,使用户能够快速检查多个位置以获得最佳成像结果。A20工具具有使用多种抗蚀剂配方的灵活性,以及广泛的工艺化学。它还能够运行多个过程步骤,如旋转涂层、软烘烤、预成像和后成像,所有这些都可以通过最先进的软件系统实现自动化。此外,该资产还具有广泛的曝光源,包括氟化氙、氟化k和 YAG激光源。总体而言,ZEISS A20光刻模型是一种先进的光刻设备,可为用户提供分辨率最高的图像和精确度,以实现极其精确的微图桉。它具有广泛的功能,包括直接成像和特征捕获、自动抗蚀涂层、自动比较显微镜和板载计量。它还具有超过6英寸晶片和较大基板的成像功能,并为各种抗蚀剂配方和工艺化学设计,使其成为各种先进光刻实验的强大而通用的工具。
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