二手 ZEISS B12 #9245011 待售

ZEISS B 12光刻设备是集成光掩模的前沿解决方桉,旨在快速、经济高效地生产用于光刻的高分辨率图样。该系统的核心是ZEISS B-12欧式Invesresit涂层，能够处理尺寸高达350mm的晶片。涂层采用压力、温度和涂层速度的闭环控制，以确保精确和可重复的图样结果。该单元的集成真空工具用于在图样传递过程中实现低应力环境，从而提高了附着力和图样保真度。B 12光刻机还包括一个先进的自动化工具，增加吞吐量，使多个晶片可以同时处理。该资产配备了双激光对准模型，精确地将晶片定位在涂层上。机器人辅助加载和自动卡带检索设备进一步提高了生产效率。然后使用集成的自动基板交换将晶片旋转涂层并与正确的光刻胶对齐。该系统具有用户友好界面,可简化从预设到完成的过程。配方驱动的图形显示提供了有关流程的实时信息,并允许用户快速调整参数以提高性能。该股还采用综合质量保证协议，并支持数据收集和流程管理，以确保每次都有可重复的高质量成果。B-12光刻机为满足光刻生产需求而设计，非常适合用于半导体、光伏、光电等要求最高性能的学科。该工具具有速度、一致性、可靠性和成本效益等优点，所有这些都是精密制造光掩模所必需的。