二手 ZEISS B12 #9245013 待售

蔡司B 12是为纳米加工应用而设计的最先进的光刻设备。具有快速、准确、可靠的抗层沉积和图样处理能力.该系统利用电子束和激光技术相结合，实现了50纳米以下的光刻分辨率和最高可实现的无掩模制造程序。ZEISS B-12由电子束柱、高真空轨道、自动抗蚀剂构象和集成配方单元组成。电子束作为成像源，用于暴露抗蚀层，高真空轨道用于移动基板。集成配方确保可以预先编程所需的能量、剂量和光束参数，以确保可重复的结果。此外,为了确保阵列的最高分辨率,机器采用了强大的反馈控制校正算法,在曝光过程中校正焦点和漂移。B 12抗蚀层可用于纳米容器、纳米结构、纳米颗粒、纳米材料等各种应用。此外,对于不同的应用程序,如批处理、多级、多点和高吞吐量,可以在不同的模式下操作该工具。B-12的基板级也能够处理任意基板如晶圆、玻璃滑梯和真空兼容蚀刻基板。此外，ZEISS B 12具有很高的灵敏度，可以在广泛的剂量水平上操作，使其能够打印非常小的特征。这使得ZEISS B-12成为量子点、高密度MEM、传感器和生物医学纳米系统等应用的理想选择。此外，B 12形成的抗蚀层被证明非常稳定，适合长期储存和再利用。总之，B-12是为高精度纳米加工应用而设计的强大可靠的光刻胶资产。它利用离子束和激光技术相结合，产生高分辨率图样，并提供多种底物和曝光模式。集成配方模型确保了可重复结果和强大的反馈控制算法在曝光过程中纠正焦点和漂移。此外，蔡司B 12形成的抗蚀层被证明非常稳定，非常适合长期储存和再利用。