二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #118476 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 118476
晶圆大小: 8"
Poly Etch DPS System, 8" Centura 5200 mainframe Phase II facility HP Robot Widebody loadlocks Position A: DPS R1 Poly Etch Position B: DPS R1 Poly Etch Position C or D: DPS R1 Poly Etch Position E: Orienter Advanced Energy RF20R generator Advanced Energy RF5S generator Amat 0 Heat Exchanger Neslab HX-150 chiller.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一种先进的半导体蚀刻反应器,为蚀刻应用提供高性能光刻解决方桉,可用于复杂电路的生产。它为各种应用需求提供了广泛的蚀刻和沉积解决方桉,对于可重复的高质量结果非常可靠。该设备采用双源等离子体发电和多个自动补充泵送系统的独特组合设计。双源等离子体允许应用蚀刻多层材料或更为复杂的基板和特征尺寸。真空室还具有"Load-lock"功能,允许芯片在最小化污染物的同时快速装卸。AMAT Centura 5200能够提供广泛的薄膜厚度、轮廓形状和特征尺寸。系统配备了自动化的软件功能,允许用户定制流程配方,更准确地控制单元。它还提供了广泛的串联环境监测和反馈控制功能,使机器能够快速识别过程异常并做出适当响应。APPLIED MATERIALS Centura 5200可以处理多种材料,包括SiO2、SiC、Al2O3、GaAs、GaN等材料。该工具还支持高级蚀刻过程,如磁性记录介质的蚀刻和MEMS应用。它还能够产生具有高产率和优良蚀刻均匀性的均匀膜沉积。Centura 5200提供了广泛的过程变量,包括温度、压力、时间、反应物气体和其他可设置以满足特定应用需求的参数。它还提供了卓越的过程控制和可重复性,使用户能够在生产中获得一致、高质量的结果。此外,该资产的拥有成本较低,可为用户提供可靠操作的长使用寿命。
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