二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #123066 待售
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ID: 123066
晶圆大小: 8"
PVD system, 8"
Process capabilities: CVD/Anneal and PVD
(3) Chambers
Chamber 1: CVD with liquid delivery system (LDS) and vaporizer
Chamber 2: PVD
Chamber 3: MAC-Anneal
Controller type: VME
Reduced pressure: YES
External cooling: water cooled
Accessories:
Degas chamber
Orienter chamber
(2) Heat exchangers
MAC blower
RF generator rack
Halo
650 system controller rack
Cryo compressor
System cables
(2) Monitors.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200(AMAT Centura 5200)是一种金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,设计用于沉积金属氧化物化合物,如氧化氘锡(ITO)。该反应堆的设计具有优越的工艺纬度和均匀性,提高了高视野应用的工艺重复性和重复性。APPLIED MATERIALS Centura 5200使用两个独立的处理室。腔室设计由一个铝氧化物上腔操作与完全平衡的热墙设计。下室采用冷墙设计操作,采用石英墙施工。两个腔室都注入一氧化二氮(N2O),循环并提高了工艺气体的均匀性。该反应堆具有先进的源构型,支持沉积氧化锡和其他金属氧化物化合物。气源包括林德低温源、IBH和Novellus Gas Control Panel (GCP)。由于Montelli软件的专有,所有来源都配备了预热和针状阀门系统,这些系统产生高度均匀的沉积物,配方一致性极佳。Centura 5200还配有双视口,用于无损原位光学端点检测和气体控制,用于精确控制反应堆中的所有气体成分,以及特定材料和应用的定制沉积参数。该系统是为高吞吐量而设计的,单个工具能够同时处理2个晶圆。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200具有低压低温操作模式,以提高沉积均匀性。该反应器还具有高温退火后的能力,可精确控制薄膜的微观结构和厚度。总体而言,AMAT Centura 5200是一种先进的MOCVD反应堆系统,在多种底物上提供均匀精确的氧化物沉积。其直观灵活的平台为金属氧化物的精确沉积提供了显着的灵活性和控制,使其成为高FOV应用的理想选择。
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