二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #188648 待售
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已售出
ID: 188648
优质的: 1999
RTP annealing system
Software version: B6.20a
System power rating: 208 VAC, 3 phase
Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader
Ch position A: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position B: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position D: single wafer cooling chamber N2
Ch position F: single wafer cooling chamber N2
Configuration:
(1) AMAT CENTURA 5200 standard mainframe body
(1) AMAT CENTURA 5200 mainframe transfer chamber
(2) Narrow body load lock chambers
(2) RTP XE chambers
(1) HP+ robot wafer handling assembly
(1) System controller / AC power box
(2) CRT monitor with light pen
Remote components:
(2) Ebara dry pumps, A30W
Bay Voltax heat exchanger
No equipment manuals
Currently installed
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种用于半导体芯片生产的高性能、可靠的电子束反应器。这种腔室式反应堆专门设计用于处理快速吞吐量、严密的工艺控制参数、最大产量和苛刻的生产周期。AMAT Centura 5200的特点是将一件式端视室放置在真空外壳内,车身和电气部件,如电源、加热元件、压力表和室门放在上面。一件式腔体由不锈钢制成,专门设计用于保护半导体芯片免受空气中粒子和反应性物质的污染。APPLIED MATERIALS CENTURA 5200的腔室充满了氮气等惰性气体,然后加热到最高400摄氏度的温度。这个温度使气体的压力增加到1.2 torr左右。气体随后被电子束枪在腔内爆炸。腔内爆炸产生的等离子体适合于加工、蚀刻和将薄膜和材料沉积到半导体芯片上。锅炉是由两个独立元件组成的组件,一个机动化的外缸和一个介电歧管,有助于控制腔内的射频场分布,确保最佳均匀性。内缸由确保低电损耗的陶瓷支架固定到位,有助于等离子体均匀性和保持一致的晶圆均匀性。腔室背面的电子束枪用来点燃工艺气体,然后将射频能量施加到晶圆上。为了控制工艺参数,Centura 5200提供了一系列不同的电源选项,可实现高精度和高精度。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200反应堆能够提供超过1000摄氏度的峰值温度,并具有清晰的温度轮廓,以确保该过程以正确的速度进行。AMAT Centura 5200的工艺均匀性和晶圆均匀性位居业界前列。总体而言,APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种先进、高性能和可靠的电子束反应器,能够提供高度可重现和可靠的半导体制造,并提高产量和缩短生产时间。它旨在满足最苛刻的半导体生产要求,并提供更高水平的工艺精度和工艺控制。
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