二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #293685998 待售
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ID: 293685998
晶圆大小: 6"
优质的: 1994
System, 6"
(3) Chambers
Oxide chamber for EMXP+, 6"
HP Robot
Gas panel: VME1/VME2
MFC/Gas filter missing
Gas box
Load lock
Simple cathode and ESC
Wall and cathode liner
SEIKO SEIKI 301
HV Module
RF Match box
ENI OEM 12B-03
Gas panel valve
VME1 Gas control
EOP Controller (3-channels)
Removed parts:
Generator
Pump
1994 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一个高性能反应室，专门为在半导体制造行业提供精确的工艺成果而设计。它采用一种新颖的自动顶载方法，能够实现超高质量的蚀刻和沉积过程。该设备在成本、速度和精度方面具有多种优势,非常适合各种关键制造过程中的客户。AMAT Centura 5200的核心是一个独一无二的双泵浦真空系统，带有车载气体管理器。这种先进的装置提供近乎完美的压力控制，使其能够提供高度一致的蚀刻和沉积性能，同时减少基板损坏或材料烧蚀。此外，它的真空水平可以调节到99.7%或更高，不需要昂贵的真空烘烤，并显着改善设备的翻转。APPLIED MATERIALS Centura 5200的反应室配有定制设计的基板插座，在加工过程中轻轻固定晶片。这样可以确保晶片保持完全水平,并以预定义的速度旋转,以确保一致的蚀刻和沉积效果。此外，该机器采用坚固的内线过滤器，有助于保护腔室免受灰尘、碎屑和污染物的侵害。对Centura 5200工艺参数的彻底控制允许最大限度地控制低轮廓（边界）蚀刻和沉积过程以及暴露于高温下。这样可以获得极具吸引力的结果和最高的质量。除了硬件功能外，该工具还配备了先进的控制和自动化工具，以确保可重复、经济高效的结果。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200配备了超高质量的蚀刻和沉积过程,确保每次都能完美执行。其先进的真空资产和定制基板插座可创建统一的设备结构,而其自动化的顶部负载方法、复杂的控制和自动化功能可确保精确调整所有工艺参数以提供最高质量的结果。总而言之,AMAT Centura 5200提供精确度和性能的完美结合,使其成为高级半导体生产工艺的理想选择。
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