二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9116514 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一种高性能的化学气相沉积（CVD）反应器，旨在制造用于半导体工业的高质量薄膜和器件结构。它能够在直径不超过200毫米的晶片上沉积铜、的、钨和其他薄膜。AMAT Centura 5200最多可容纳28个晶圆,同时加热基板,在基板上均匀度可达± 3°C。CVD反应堆配有高性能LaB6（六硼化​​的移热源），以及先进的快门控制、双气体能力和脉冲流量控制，以提供高性能CVD薄膜所必需的温度和均匀性。APPLIED MATERIALS Centura 5200旨在提供均匀的薄膜沉积和整个晶片的均匀性，为沉积尽可能从晶片到晶片变化最小的高质量薄膜提供必要的均匀性。Centura 5200还配备了几种工艺监控工具，确保了准确、可重复的薄膜沉积。其中包括一个实时光发射光谱（RTOES）系统，该系统提供过程周期中等离子体环境的信息，以及一个离子收集系统，测量环境中离子的发射光谱。这些系统收集的数据可用于准确监测沉积过程，并根据需要进行调整，以确保高质量的薄膜。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200配备了气流控制器和真空泄漏检测器系统，以防止由于底物暴露于大气中的反应性化学品浓度而造成沉积误差的可能性。AMAT Centura 5200还包括大量计算机控制的仪器和数据处理工具,使复杂的CVD过程的集成和控制变得更加简单和快速。总体而言，APPLIED MATERIALS Centura 5200被设计为半导体行业的高性能CVD反应堆，具有广泛的特点，包括精细的工艺控制能力、同时双气体沉积以及颗粒收集和监测。它的先进功能旨在提供一个统一和可重复的沉积环境，从而确保高质量薄膜的生产。