二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9145240 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是利用等离子体蚀刻技术实现高通量半导体制造的高性能介电蚀刻反应器。该设备提供了一个高度控制、低温、高密度的等离子体环境，用于蚀刻高级介电材料层中的细腻特征。该系统由高性能真空室组成，能够达到高达5 Torr的过程压力。这个腔室由一个射频电源供电，允许创建一个高密度的等离子体通过复杂的结构在介电层蚀刻。腔室的设计还允许快速疏散，使单元实现快速处理时间和提高产量。专有的气体喷射机允许产生有利于不同介电材料类型等离子体蚀刻的气体溷合物。通过控制气体的溷合物，结合等离子体的功率和腔室的温度，这种工具能够蚀刻一些最苛刻的介电层。非资产组件如高分辨率光学（HROS）和阴影遮罩系统进一步加强了这一过程。这些允许创建具有最小失真的高分辨率特征，这对于介电层制造中所涉及的微调过程是必须的。除了等离子体蚀刻工艺外，商会还提供了一个与抗蚀剂剥离工艺兼容的环境。这使得能够去除抗蚀剂材料，从而能够精确形成金属和介电元件，这对于先进的半导体器件制造至关重要。AMAT Centura 5200为蚀刻细腻的介电层提供了高度精确和一致的工艺。通过先进技术和精确控制的结合，这一模型可以提高工艺产量和吞吐量，而不会影响质量。该设备是推进现代半导体制造工艺的关键工具。