二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9182239 待售
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ID: 9182239
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
SACVD System, 8"
Process: eMax
Mainframe
AC Power rack
Chiller:
Buffer chamber
Cool down chamber with NBLL
HEWLETT-PACKARD Robot
Wafer shape: SNNF
SMIF Interface: NO
Chamber A / B / C: eMax
Chamber F: Orientor
Load lock A / B: Narrow
(6) Wafer sensors
SMIF: No
EPD Controller
Chamber A / B / C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
MKS TYPE627 1TORR Mono meter
Mainframe information:
System placement: System alone
Robot type: HP+
L/L Wafer mapping
Slit valve & plate type: Standard
Robot blade: AL
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger (Chiller): No
System monitor: Stand alone
System placement: System alone
Dry pumps:
Chamber A / B / C / D: No
Load lock: No
Transfer: No
Gas panel configuration:
Chamber A / B / C:
(6) Channels
SF6 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
N2 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
O2 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
CF4 / 100 Sccm / STEC SEC-7740
CHF3 / 200 Sccm / STEC SEC-7740
AR / 200 Sccm / STEC SEC-7740
Missing parts:
(2) Slit valves
Electrical:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Power: 208 VAC, 4 Wires, 3 Phase delta
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种高度先进的反应器，用于硅片在各种温度和压力水平下的化学气相沉积（CVD）。该反应器具有独特的双附着电池设计，为沉积材料提供了卓越的均匀性和均匀性。这座反应堆配有多个部件，以支持最先进的CVD工艺。这包括一个多区线性加热器电源，多个气源和控制，多个射频和微波源，一个真空系统，以及一个四级压力控制器。这个反应器还包含一个固定的磁化器，允许在晶圆上具有极好的温度均匀性。AMAT Centura 5200提供两种不同的腔室类型，无论是圆形还是矩形腔室。每个腔室最多可容纳16个2英寸或4个8英寸晶圆，并且可以承受高达1200 °C的温度。这使得二氧化硅、氮化硅和碳化硅等材料的沉积不会发生任何热降解。反应堆可以手动或全自动模式运行，用户可以控制压力、流量和每个过程的时间等参数。这使得反应堆能够提供可重复和一致的过程结果。在工艺监测和控制方面,APPLIED MATERIALS Centura 5200具有现场诊断功能,包括石英振荡器和四极质谱仪（QMS）。AMAT还可以与全套流程控制软件集成在一起，用于流程优化和可编程配方。Centura 5200设计用于提供均匀的沉积速率和一致的沉积材料折射率。以其紧凑可靠的设计，是半导体工艺集成和先进材料研究应用的绝佳选择。
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