二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9184781 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种单晶圆、多模、感应耦合等离子体（ICP）低压化学气相沉积（LPCVD）型反应器，设计用于制造用于各种半导体器件应用的纳米级固态元件。它有一个灵活的工艺室，可以配置用于沉积广泛的薄膜，包括硅（Si）薄膜、氮化物薄膜和中性硅薄膜。它还具有高功率射频发生器，使操作员能够精确控制等离子体中离子的浓度。AMAT Centura 5200是一种多工具反应器，能够为生产用于先进技术节点的半导体模具提供卓越的沉积均匀性和过程控制产量。反应堆通过易于使用的直观用户界面和预先编程的配方降低了拥有成本。高效的自动晶圆交换站允许在AMAT高吞吐量模式下快速作业切换和晶圆吞吐量高达每小时81个晶圆。APPLIED MATERIALS Centura 5200通过腔室冷却和模拟热扩散提供卓越的热管理。这允许在整个基板上具有一致的薄膜厚度和快速的工艺时间的高沉积速率。通过可调挡板保持较低的腔室压力，这有助于工艺腔室更快地达到较高的温度均匀性。Centura 5200的设计是通过五轴控制、激光晶圆映射系统和先进的晶圆处理技术实现超低缺陷级别。集成的快速傅立叶变换（FFT）光谱技术探测过程中基板的均匀性。高级工具的实时过程控制功能允许操作员快速检测沉积非均匀性,并在几分钟内调整参数以更好地处理。通过集成过程监控功能和灵活性,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200可以提高产量和吞吐量,并加快上市时间,即使在最具挑战性的节点上也是如此。这使得该工具对于制造纳米级元件的设备制造商和研究机构极具吸引力。