二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9186584 待售
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ID: 9186584
RTP System, 8"
Specifications:
Connection: Delta
Mainframe: Centura I
Ch. configuration:
Ch A: RTP Mod 1
Ch B: RTP Mod 1
Ch C: No
Ch D: No
Ch E: No
Ch F: Single slot cool down
Robot(HP): HP
Robot blade (Reduce contact): Quartz
LL (Wide with tilt-out): Narrow body, tilt-out
LL Slit valve (Chemraz): Chemraz O-ring
Signal cable: 25ft
Heat exchanger: No
VME
Controller and system AC Rack
Gas panel:
Gas feeding: Top feed SLD
Gas 1: N2 20slm, STEC 4500
Gas 2: O2 10slm, STEC 4500
Gas 3: N2 20slm, STEC 4500
Gas 4: O2 10slm, STEC 4500
Process chamber: Mod 1
Bottom purge: No
Manometer: 1000 torr/Single
Ch Gas feed: Single feed
Butterfly throttle valve: 1/chamber
Wall cooling: PCW Cooled wall
Chamber clamp: Clamp with bolt
SiC Coated process kit: None
Lamp controller: Luxtron 100C
Power requirements: 208V, 550A, 60Hz
1996 vintage.
AMAT（应用材料）AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种高性能的化学气相沉积（CVD）反应器。该设备用于在半导体和其他表面上形成薄膜，方法是将含有所需薄膜材料的蒸气沉积到表面上。该系统的目的是沉积可用于各种电子和光电应用的超细均匀薄膜。AMAT Centura 5200反应堆采用石英管设计，能够处理单个和多个晶圆模块。它具有用户友好的基于GUI的单元,使用户能够轻松设置过程参数,如温度、压力和流速。该机还具有两个独立的加热区，可用于支持不同的温度剖面和工艺制度。必须仔细监测和保持温度，以确保最佳沉积结果。该装置装有先进的气体输送工具，用于精确的流程气体流动管理。这确保了准确和可重复的过程结果。该资产能够处理范围广泛的材料，包括硅、移植物、氮化氙、蓝宝石、碳化硅和金刚石。APPLIED MATERIALS Centura 5200设计用于支持高质量薄膜的沉积,具有出色的可重复性。该型号还配备了自我诊断和监控能力，有助于确保可靠和安全运行。这包括过程流的自动关闭和温度控制（如果不符合预设条件）。设备的温度、压力和架子温度都可以用电脑系统实时监控。这为用户提供了重要的反馈,以确保最佳流程操作。该单元还能够提供高级亚微米光刻（ASMP）功能。可以进行超精确的掩模对准和光刻，以形成复杂的特征和结构，具有极好的分辨率和最小的失真。机器还可以配置为支持旋转涂层、蚀刻和离子植入等多种技术。Centura 5200是一种可靠且用途广泛的反应堆,可为用户提供一系列应用的出色沉积功能。它为可靠的长期使用而精心设计，并提供先进的工艺参数监测和控制，以确保一致和可重复的结果。
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