二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9188519 待售
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ID: 9188519
晶圆大小: 8"
优质的: 2003
HDP CVD System, 8"
Ultima TE process chamber
Wafer shape: SNNF
EMO Type: Turn to release
Chamber configuration:
Chamber A: HDP Ultima TE process chamber
Chamber B: HDP Ultima TE process chamber
Chamber C: HDP Ultima TE process chamber
Chamber E: Multi cooldown chamber
Chamber F: Orient chamber
Loadlock configuration:
Loadlock type: Wide body
Auto rotation
Cassette type: 200mm
Mapping function: FWM
Vent type: Variable speed
Fast vent option
Mainframe configuration:
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Ceramic blade
Remote monitor: Table mount
Clean system: RPS ( Remote plasma) clean
Sub-system configuration:
Chiller
RF Generator type: ETO
Gas panel configuration: Normal gas panel
Turbo pump: ADIXE ATH2300M
Gate valve: NC
Electrical configuration:
Line voltage: 208V
Full load current: 320 A
Frequency: 50/60Hz
CE Safety mark: English
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200反应堆是一种单晶圆热处理设备，能够制造先进的半导体集成电路（IC）。它是半导体制造商用于蚀刻、清洁和与设备制造相关的其他操作的工具。该系统具有六级工艺室构型，允许引入各种腐蚀性、侵蚀性和其他化学物质进行各种处理。AMAT Centura 5200反应堆支持多种工艺，包括干湿蚀刻、沉积、清洗、钝化和金属溅射。它采用专利区域级控制技术和独特的双气体晶片旋转装置进行设计，从而能够精确控制刀具各级的工艺条件。这些技术的结合使激光能够精确控制热过程，从而能够制造出更高水平的集成和性能。该工具设计用于大批量生产环境，能够每小时处理多达500个晶圆。通过带有触摸屏显示屏的直观图形用户界面（GUI）提供对机器操作的访问,该显示屏允许优化参数控制和快速访问流程数据。该工具的特点是一套自动化的公用设施，提供一系列的功能，以方便反应堆的运行。这些措施包括人员安全、晶片跟踪、晶片批次质量控制和自动晶片设置，从而能够监控过程历史以确保可重复的性能。APPLIED MATERIALS Centura 5200反应堆的设备可最大限度地减少与芯片制造相关的环境和安全问题。其目的是尽量减少化学品接触和与生产先进的集成电路有关的其他危险条件。该资产符合包括SEMI S2和S8在内的各种法规和标准。总之，Centura 5200反应堆是一种高度先进的热处理模型，旨在满足下一代半导体制造的要求。它的一套功能提供了一系列自动化的公用事业，以方便操作和减少潜在的安全和环境风险。它是一种能够满足高级IC制造的最高性能和可重复性水平的工具。
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