二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9247619 待售
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ID: 9247619
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
DPS Etcher, 8"
Wafer shape: SNNF
EMO Type
Chamber configuration:
Chamber A, B: DPS Metal process chamber
Chamber C, D: ASP Process chamber
Chamber E: Cool down chamber
Chamber F: Orient chamber
Load lock:
Load lock type: Narrow body
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: FWM
Fast vent option
Mainframe:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Buffer robot
Buffer robot blade: Stander blade
Status light tower
Remote monitor: Table mount
(2) Chillers: HX-150 and Stead head0
(2) OEM-12B3 RF Generators
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
NESLAB System II Heat exchanger
Control rack
Local AC rack
Accessories
Cables
Electrical configuration:
Line voltage: 208 V
Full load current: 300 A
Frequency: 50 / 60 Hz
CE Marked
1997 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一种高效、全自动的化学气相沉积（CVD）反应器，旨在满足电子、光电、硬涂层和太阳能电池行业苛刻的生产要求。AMAT Centura 5200提供了可扩展和模块化的配置,允许处理各种材料和工艺室。它利用水平和垂直热均匀性水平来满足精确的沉积过程。高速沉积和提高反应堆稳定性增加了吞吐量，同时保持了精确的结果。高温工艺室的设计允许快速晶圆通量和精确的沉积控制。其先进的物理气相沉积工具集提供了高度精确的物料来源、动态气体控制和定制气流设置。此外,它还具有较高的端点精度和较大的氮化物处理能力.APPLIED MATERIALS Centura 5200具有高度的多功能性,可提供高级自动化和程序化功能以产生重复的处理结果。其专有的室内结构提供了卓越的温度均匀性和改进的可重复性和整体性能质量。Centura 5200适用于一系列材料，如硅、氧化铝、多晶硅以及一系列金属和合金，最高温度为900 °C的应用。该系统可配置为可容纳4到8英寸的晶圆尺寸,从而增强了灵活性。AMAT提供的总体维护包包括全面的预防性维护、技术IT支持和软件升级。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种功能强大且可靠的CVD反应器,专为先进的材料沉积而设计,不需要长时间的冷却和加热周期。该系统是制造商希望提高效率和提高工艺性能的理想解决方桉。
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