二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9248821 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200大气压CVD/PECVD反应器，是一种先进的等离子体辅助化学气相沉积设备，用于沉积用于MEMS、高K、屏障、介电、各向异性和低k应用的薄膜。它具有高度通用的腔室设计，能够满足下一代技术节点的需求，通过低温处理提供高纵横比的均匀性和选择性。AMAT Centura 5200反应堆系统包括4英寸石英室、过程压力控制、多气体注入、全功能室加热和温度控制、高达254 MHz射频等离子体源和湍流泵送单元。该腔室设计为在大气层和温度范围内运行，提供300 mTorr至760 Torr的宽处理范围。它配备了两个254 MHz 13.56Mhz RF偏置源,总功率高达500瓦。各种工艺配置允许同时操作多个沉积配方。APPLIED MATERIALS Centura 5200反应堆机器还具有详细的过程控制功能,允许您调整、监控和优化反应性气流、过程压力、腔室温度和每个过程配方特有的表面温度。它还包括一个流程监控用户界面，它允许方便的工具设置和配方测试。高级数据记录功能可持续监控沉积过程。Centura 5200反应堆还支持先进的沉积控制功能，如实时过程监控和实时轮廓测量，以实现速度和层均匀性优化。反应堆先进的等离子体辅助沉积技术使高温过程步骤的低温沉积得以实现，最大限度地降低了底物损坏和污染的风险。还配备了高温蚀刻能力，用于更灵活的工艺配方。这种先进的反应堆资产使您能够在保持最佳工艺质量的同时实现广泛的工艺目标。它非常适合原型和小型传感器的生产、研发以及新的技术开发实验室。