二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9251052 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种先进的低压、单晶圆反应堆设备，设计用于为先进的微电子、MEMS和光电应用提供高质量的等离子体薄膜沉积。该系统利用经过验证的AMAT处理技术,为时间关键的工艺步骤（如栅极蚀刻或保护层或平面层）提供均匀、无缺陷的薄膜沉积。AMAT Centura 5200配备了包括电子回旋共振（ECR）或感应耦合等离子体（ICP）源在内的多种沉积源，以及高向上涡流磁场，以利于均匀可重复的薄膜沉积。此单元采用高度模块化、可扩展的设计来实现多个源配置。为便于沉积特定的薄膜层和特征，提供了各种源定制。该机器具有500晶圆/小时的极高吞吐量,有助于最大限度地提高生产效率。此外，其先进的基板温度控制能力有助于最大限度地减少热应力，并确保一致和可重复的结果，即使对于精致的基板。此温度控制可帮助APPLIED MATERIALS Centura 5200消除对温度敏感的应用程序的猜测,并最大程度地减少工艺步骤的数量。该工具还具有一个集成的等离子体控制资产（PCS），用于对等离子体源进行可靠的控制，从而能够对工艺参数进行精确的调整和微调。利用集成的端点监控，用户可以在沉积过程中监测分析气体消耗、压力、射频功率、温度等各种参数。这有助于确保过程达到最高标准,并使模型保持峰值性能运行。为方便起见,Centura 5200包括一个集成的负载锁,使设备能够在批量生产环境中运行。这种负载锁定及其高吞吐量功能使AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200成为寻求快速高效扩展生产输出的高级生产环境的理想选择。总体而言,AMAT Centura 5200是各种沉积应用的绝佳选择。其可扩展性和灵活性，加上先进的等离子体控制、高吞吐量、温度控制能力，使其成为微电子和光电行业要求苛刻的生产应用的理想选择。
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