二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9256948 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种基于等离子体的反应器，设计用于先进的等离子体增强气相沉积过程。该反应器用于各种底物上的薄膜层沉积。反应堆配有精密源气体输送系统，能够在沉积过程中提供无与伦比的控制水平和精度。源气用于在工艺室内创造均匀的等离子体环境，允许精确控制基材上的沉积速率、温度和均匀性。AMAT Centura 5200采用自动腔室几何设计,减少了清洁和维护所需的时间,同时也最大限度地减少了手动对齐的需要。它还配备了集成等离子体发生器，通过精确的预热和热处理后区域推动基板等部件，确保沉积过程中使用的所有材料在沉积发生前得到适当处理和预热。反应堆配有先进的反馈控制系统，允许用户监控正在进行的过程参数，并允许他们根据需要调整过程的精度。反馈还允许用户设置特定于过程的参数，从而使反应堆产生更加一致和可重复的结果。先进的等离子体发生器确保整个工艺室内的等离子体环境均匀，从而产生高度均匀的沉积速率。APPLIED MATERIALS Centura 5200专为高度复杂的过程而设计,例如涉及大型复杂基板和多层堆栈几何形状的过程,使其适合先进的纳米结构和MEMS应用。能够在同一腔室内运行多个进程模块，确保高吞吐量，具有高可重复性；此外，自动腔室几何形状确保了用户能够快速准确地执行复杂的三维沉积任务，同时还提供了紧凑的物理足迹。最后，Centura 5200是一个高端反应堆，拥有大量非标准特性，使其非常适合先进和创新的应用。集成的源气体输送系统、自动腔室几何形状和先进的等离子体生成在沉积过程中实现了无与伦比的控制和精度，而模块化设计使系统功能根据需要易于改变或升级。这些特性结合在一起,使AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200成为先进薄膜沉积和纳米结构的理想选择。