二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9261088 待售
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ID: 9261088
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
CVD System, 8"
Process: HPTEOS
(2) Loadlocks
Robot assembly
(3) CVD Deposition chambers
Chamber type: DxZ
Includes:
(5) EBARA Pumps
System controller
AA20 Loadlock pump
AA40W Pump
AA70W Pump
AA20 Buffer pump
ADCS TEOS Cabinet
TEOS Canister size: (5) Gallons
Process tank pressure (Liquid Cabinet), TEOS: 35
AMAT 1 Heat exchanger
Heat exchanger temperature: 65°C
Mainframe:
OTF
HP End Enduro Robot
VEXTA Stepper motor, 5-Phase
Process chamber:
(3) ADVANCED ENERGY RFG 2000-2V RF 1 Generators
(3) ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF 2 Generators
(5) ADVANCED ENERGY 3155094-003A RF Matches
MKS 122BA-0100EB-S Pressure manometer, 100 torr
Pressure control: Throttle valve
0040-32148 Heater
Process temperature: 400°C
MFC Gases:
N2: 3 slm
O2: 50 sccm
NF3: 500 sccm
C2F6: 500 and 1000 sccm
O2: 2 slm
He: 1 and 2 slm
LFM: STEC, TEOS 1.5 g/min
0500-01047 Endpoint
3870-04383 Injector valve
IV Line temperature, TEOS: 100
Gasline temperature: 100
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种高性能的半导体晶圆製造反应器，设计用于先进的封装装置生产。该反应堆建立在APM获得专利的等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）技术之上。AMAT Centura 5200是利用PECVD技术的先进封装半导体晶圆制造反应堆。5200型号提供了生产缺陷最小的优质芯片的有效手段。该反应堆能够进行金属和介电沉积、蚀刻和后处理。PECVD提供了高精度的工艺重复性，改进了对氧化物应力和薄膜厚度的控制，并提高了抗静电损坏的能力。这使得使用APPLIED MATERIALS Centura 5200制造的芯片能够以卓越的可靠性实现高产操作。Centura 5200可以处理直径从2英寸到12英寸不等的晶片。反应堆配备了先进的运动控制系统，以及先进的热控制和物料处理系统，以实现最大的生产精度和可重复性。反应堆设有两个反应物气体溷合器和自动气流控制装置，以确保生产的最高精度。这些功能允许特殊工艺,可以提高AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200上生产的芯片的质量。AMAT Centura 5200提供了广泛的功能，包括精密的工艺控制、快速固化、优越的附着力、提高的产率和降低的粒子生成。这样可以以较低的成本生产质量更好的芯片。反应堆的先进技术也使制造商能够探索新的、更具成本效益的工艺。为确保最佳性能,APPLIED MATERIALS Centura 5200配备了诊断系统,可检测系统问题并允许进行故障排除。工厂支持团队可以为需要系统帮助的客户提供帮助。Centura 5200反应堆为任何半导体生产挑战提供了强大而高效的解决方桉。该反应堆采用先进的PECVD技术，可提供高性能和可靠的芯片生产。这样可以提高产量、提高芯片质量和降低生产成本。反应堆还具有广泛的特点，包括先进的运动控制、热控制、材料处理系统和自动气流控制。其灵活的设计使得AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200成为任何半导体制造生产线的理想伴侣。
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