二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9262487 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是为先进电子半导体制造而设计的化学气相沉积（CVD）反应器。用于在硅、铝、玻璃、钢等基板上沉积复合薄膜。反应堆利用直流和射频等离子体源进行蚀刻、沉积和清洗。AMAT Centura 5200因其专门的溷合型感受器配置与双源等离子体设备相结合，对III-V和II-VI复合薄膜的沉积特别有用。这种独特的组合为用户提供了非凡的统一性，即使在非常大的运行。此外,直流电源具有卓越的均匀性和可重复性.应用材料Centura 5200的大容量和高处理速度是通过其专利、垂直、原位控制反应物流动而实现的。这使用户能够在晶片逐个晶片的基础上优化工艺，创建一个均匀且可复制的薄膜。该系统具有精密薄膜沉积控制的高灵敏度端点检测单元，使薄膜沉积具有优良的成分控制、优越的表面质量和优越的层对层均匀性。该机还设有加热工艺室，以防止在基板表面形成冷凝，为用户提供更精确、可重复和长期的工艺控制。此外,该工具还具有较低的颗粒数量和良好的工艺室清洁度.这允许使用更大范围的晶圆尺寸和基板，以及更广泛的工艺步骤和温度。Centura 5200具有巨大的23 英寸/580mm晶片装载能力，以及最大压力1x10-5 torr的真空处理室。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200旨在为客户提供先进的CVD技术,并在晶圆的整个表面上提供精确的薄膜沉积功能。它能日复一日地以最高的可靠性、可重复性和均匀性来实现半导体生产。