二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9364581 待售

ID: 9364581
晶圆大小: 2"-6"
优质的: 2014
PECVD Systems, 2"-6" 2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200是一种高度先进且用途广泛的半导体加工反应器,设计用于闸后绝缘沉积、盐化物和原子层沉积(ALD)应用。它是半导体制造中使用的工业标准沉积设备。该反应器主要用于制造薄膜晶体管、半导体、发光二极管、传感器和其他半导体组件。AMAT Centura 5200采用模块化设计,减少了对复杂单晶圆转移臂的需求,使操作能够更高效地进行。它还具有模块化、自动对准源和目标、电容耦合等离子体(CCP)蚀刻、用于超低压沉积的远程等离子体源(RPS)以及用于高蚀刻速率的集成磁性限制等离子体(ICP)系统等多种先进功能。这使得它适用于常规热氧化、高速率溅射沉积、氮化硅高温沉积等多种应用。APPLIED MATERIALS Centura 5200以其低温气体输送装置,为高端半导体器件加工提供高度均匀、保形的薄膜沉积。它能够提供直径高达15埃的特征,非常适合栅极绝缘层和接触层。Centura 5200的真空环境还允许对电介质、金属和其他材料进行高度精确和可重复的处理。该机还能够直接链接到多个蚀刻源,包括等离子源离子植入(PSII)、等离子体蚀刻深反应性离子蚀刻(DRIE)、反应性离子束蚀刻(RIBE)。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200还提供了一系列自动化控制系统,使操作员能够在操作员监督极少的情况下执行高级别的杂项配方。它拥有全套的视觉检查、机器学习能力、多个烤箱配置以及广泛的样本准备算法。这样可以确保设备结果一致且可重现。综上所述,AMAT Centura 5200是为半导体处理应用而设计的高度先进且用途广泛的工具。它提供了广泛的功能,包括模块化设计、用于超低压沉积的AVS和RPS、低温气体输送资产、多种烤箱配置以及自动控制系统。这使得它非常适合生产先进的半导体元件。
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