二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9401874 待售
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ID: 9401874
Dry oxide etcher
Dual process chambers
Control
Power cabinet
Transformer module
SEIKO Turbo pump controllers
RF Cabinet
(2) ENI OEM-12B3 RF Generators
(2) BOC EDWARDS iQDP80 Vacuum pumps
(2) iQDP40 Vacuum pumps
(2) SMC INR-496-002D-X007 Recirculating chillers
Power supply: 208 V, 3 Phase, 60 Hz, 72 kVA.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200是一种高性能、多用途的反应堆，专为大批量生产半导体器件而设计。该室的最高工艺温度为650摄氏度，并具有超高纯度的氮和氢气氛，为要求最苛刻的蚀刻、沉积和杂质去除应用提供了最高程度的热稳定性和清洁性。AMAT Centura 5200配备了多种先进技术，包括多模等离子体源和极高高温能力，使用户能够同时进行多种先进工艺，以实现最高的生产力。该源能够产生各种用于蚀刻、剥离或植入过程的低功率等离子体、离子轰击和高功率射频等离子体。在一个令人印象深刻的30千克/厘米²压力下，全陶瓷crucible构造，六个元素气体狭缝阀允许过程流量被精确控制和调节。高温烤箱提供精确维护和调节的温度，而机械检查窗口由视口和辐射屏蔽层组成，以进一步保护用户免受危险条件的影响。温度均匀性和温度稳定性由由多个内外传感器组成的直观温度控制设备保持。先进的、易于编程的数字监视器允许用户监控室内气体成分、碗压、气流和基板温度等多种参数。APPLIED MATERIALS Centura 5200的冷却系统能够对腔室的各个部分进行可靠且均匀的冷却,其冷却周期可以根据特定的工艺要求进行定制。此外，该室还配备了多个安装组件，便于方便清洁的安装、维护和搬迁。最后，室内隔离装置可确保尽量减少任何工艺损失和污染，而一台综合空气净化机可确保安全的工作环境。因此,Combined Centura 5200提供了无与伦比的价格/质量比例,使众多用户能够从其高级功能集中受益。
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