二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115991 待售
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已售出
ID: 115991
晶圆大小: 6"
优质的: 1991
MXP Etcher, 6"
(3) Chambers
Mainframe type: Mark II
I/O Wafer sensor: No
Installation: Stand alone
Expanded VME: Yes
Mini-Controller: Yes
Phase 3 robot: Yes
Phase 3 cassette handler: Yes
Storage elevator: (8) Slots
Cassette platform: Standard
Wafer orienter: No
L/L Chamber bolt down lid: No
L/L Particle reduction kit: No
Gas panel:
MFC Unit UFC-1100A
Gas panel type:
Twelve lines main: No
Twenty-Eight line onboard: No
Standard gas panel (28 line capability): Yes
Remote gas panel: No
Chamber A:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Chamber C:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Chamber D:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Process application:
Chamber A: Etch MxP
Chamber C: Etch MxP
Chamber D: Etch MxP
System electronics:
Slot # Description
1 Mini SBC
2 SBC
3 SEI
4 MIZER: No
5 AI
6 AO
7 Video
8 AO
9 AI
10 Stepper
11 Stepper
12 Stepper
13 Stepper
14 DI/DO
15 DI/DO
16 DI/DO
17 DI/DO
18 DI/DO: No
19 DI/DO: No
20 DIO: No
Floppy drive 3.5
Chambers A, C and D:
Chamber type (Specify Mark II, MxP+, CVD or other): MxP
Lid type (Specify STD, EGEC, BDEC, Uni-Lid or other): STD
Chamber rough line
Chamber airline
Chamber interconnect PCB
Heat exchanger QD fitting
NESLAB facilities plumbing
Slit valve assembly
Remington hinge slit valve
Backing pump circuit breaker
RF Generator power outlet
RF Generator circuit breaker
Magnet driver (If present, Rev#)
Lamp driver (If present, Rev#): No
RF Match
Turbo controller
Turbo flow meter: No
Turbo pump / Controller type Turbolink NT340M: Leybold
Gate valve: No
Chamber vent valve
Remote frame:
Primary pump frame: No
Secondary pump frame: No
Stacked remote frame: Yes
Stacked remote frame contents: AMAT (3) RF Generators
(1) Heat exchanger
Type of hose fittings: QDC
RF Generators:
Chamber A: ENI 12A
Chamber C: ENI 12A
Chamber D: ENI 12A
1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种最先进的等离子体反应器,用于蚀刻和沉积用于制造电子器件的材料。这座反应堆以性价比高、性能高而闻名。反应堆利用高频电场产生的高密度等离子体设备,可提供精密蚀刻和沉积。通过这一过程,可以精确地制作出精度极高的特征。此外,AMAT P-5000还配备了一个专门的高温子系统,允许更高的沉积速率和保形沉积,这有助于提高材料的均匀性,减少沉积和蚀刻时间,显着提高工艺效率。APPLICED MATERIALS P 5000反应堆还通过集成先进的高密度等离子体系统提供动态气体控制和均匀平面化。这大大提高了4-100 nm层的均匀性,精确厚度均匀性为+/-5%。这有助于精确控制蚀刻速率并在沉积水平上达到一致的选择性。此外,该单元具有达到高达400 W离子密度和40 mT等离子体均匀性的能力,提供了优越的蚀刻工艺,包括优越的温度控制。吞吐量方面,AMAT P 5000反应堆明显快于传统反应堆系统,最大沉积速率高达30微米/分钟。这有助于减少生产时间和成本。此外,该机器还包含一个专门的计算机界面,使用户能够轻松地利用不同的工艺参数和配方来制造不同的组件。总体而言,P-5000是一个先进的基于等离子体的反应堆,为蚀刻和沉积材料提供经济高效和高性能的能力。该工具以其在厚度、离子密度和沉积过程中的选择性方面的卓越均匀性和准确性而着称。此外,它改进的吞吐量和计算机界面使用户能够轻松地制造出具有特定要求的组件。
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