二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #116968 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 116968
晶圆大小: 8"
优质的: 1994
CVD TEOS system, 8" (2) CVD TEOS chambers (2) Etch chambers 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种用于先进半导体器件制造的外延沉积和平面化设备。AMAT P-5000反应器提供了一种单室溶液,能够为各种半导体应用提供可靠和准确的外延材料沉积。APPLICED MATERIALS P 5000反应堆配有400mm感应平台,具有5区多区控制器,用于精确温度控制。基板由位于腔室下表面下方的高速、独立的电感应器线圈加热。磁感器平台也被设计为同时容纳多达24个晶圆。AMAT P 5000反应堆获得专利的Liner-Spring (TM)端效应器可容纳任何类型和大小的基板,无需更换端效应器以容纳不同的基板。AMAT P5000反应堆还提供了易于使用的可编程软件和许多提高生产力的功能,包括自动压力调节、故障监测和平板真空德加。该系统还建立有一系列沉积源,包括一个浓缩/元素源组合和五个元素源,可配置为提供各种类型的沉积源。APPLIED MATERIALS P5000反应器还具有先进的气体输送组件,包括源气体质量流量控制器(MFC)、清除进、出气流、清除歧管以及每个源的单独催化剂。此外,P5000反应堆还配备了一个多级涡轮分子泵装置,该装置的配置满足了半导体器件沉积的要求。该机采用先进的来源和多种先进的材料加工技术相结合的设计,保证了超清洁的工艺氛围。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000还附有一个名为"气流"室的额外腔室。这允许一个额外的源,用于以尽可能高的吞吐量沉积用于设备处理的高级材料。气流允许直接在室内而不是在室外充气源,并且由于单独的腔室设计,通往反应堆的气线很容易被清除。P 5000反应堆提供完整的工具集成,确保最高水平的可靠性和控制。可选的数据记录资产允许额外的数据收集和分析工具,而预防性维护模型可确保设备的最佳性能。P-5000反应堆是制造任何先进半导体器件的通用、可靠的系统。
还没有评论