二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #130202 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS P5000是一种反应堆，设计用于种植大面积的氮化移铵（GaN）薄膜。该反应堆能够制造高效的光学和电子元件。AMAT P-5000利用化学气相沉积（CVD）工艺将GaN膜沉积在硅、蓝宝石、GaAs等基板上。反应堆采用高温石英管炉设计，内含石英反应室。反应室中的坩埚被炉加热至800°C至1000°C的温度，而含有GaN或SiGaN的源气体则被引入反应室中。还供应金属有机化学前体蒸气。在这个反应室内，前体分解形成气态悬浮的氮气和氙气，被引导到底物上形成均匀的膜，厚度平坦均匀。APPLIED MATERIALS P 5000反应堆配备了各种各样的控制选项和特点。为监测反应室内的过程，反应器配有底物和反应室两个独立的温度控制系统。这允许温度控制和可调节的加热器功率，以及准确的气流，压力和温度控制。反应堆还能够在反应室内掺入一系列GaN晶体生长过程，如MOVPE（金属有机气相外延）、HVPE（氢化物气相外延）和S-PDP（种子-HVPE）。为实现高效和受控的晶体生长,APPLICED MATERIALS P-5000的特性能够控制反应室内的总压力,从而可以动态调节温度,并结合气体调节和温度级。反应堆还提供了一套独特的多区温度控制器，可以准确控制晶体表面和基板上的沉积过程。此外，P 5000还配备了保护人员的多种安全功能，如保护操作员免受电击的介电消火器和防止擅自进入的互锁门系统。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反应器是一种可靠而坚固的CVD沉积工具，用于制造具有优化和均匀性能的大面积GaN薄膜。