二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #131584 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种基于物理气相沉积（PVD）工艺的沉积工具。该工具旨在将材料薄膜沉积到任何合适的基板上，创造出厚度、成分和掺杂的精确控制的薄层异质结构，以满足半导体、储能和其他创新的设备制造要求。AMAT P-5000反应堆采用超高真空环境，将金属、陶瓷、电介质等固体原料汽化，形式为crucibles、源和其他进料部件。一旦去汽化和电离，源材料被高压电场加速，并以精确的化学计量比沉积在任何热稳定的基板表面上。刀具的工艺温度从室温到900 °C不等，温度可以用热电冷却器（TEC）调节，在整个基板表面上实现精确、均匀的薄膜沉积。可达到的最高沉积速率为每秒2纳米（nm）。除了提供较高的工艺重复性和沉积率外，该工具还具有一个可分离的腔室，以便在沉积过程中更换或维护零件，而不会对薄膜产生任何不良影响。APPLICED MATERIALS P 5000通过等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、溅射、电子束蒸发等一系列不同沉积技术，能够在基板表面创建纳米级架构。还可以减少源颗粒和污染物，以便为各种应用创造出具有低缺陷密度、高附着力和优越表面均匀性的干净、均匀的层。此外，P 5000配备了通用的工艺控制器，可以方便地操作工艺参数，以精确控制薄膜厚度、成分和掺杂。该工具还使用户能够实时监控薄膜的增长。此外，还可以使用大量的数据收集和分析方法从工具中提取相关特性，并优化工艺，以提高产量和效率。综上所述，AMAT P 5000是一种极好的沉积工具，它通过精确控制薄膜层的结构和性能来促进薄膜沉积。通过采用各种沉积技术，该工具确保了高可重复性和均匀性，可应用于材料科学研究和半导体器件制造的众多应用。