二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #159335 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种设计用于半导体和光电生产过程的多发气相沉积反应器。该腔室适用于薄膜沉积在基板上的应用。利用电子回旋共振（ECR）等离子体源技术，实现沉积速率高、均匀性好的均匀底物。此外，AMAT P-5000反应堆旨在提供精确的温度控制，使用户能够在基板之间达到均匀的温度，这是对材料特性的一致要求。APPLICED MATERIALS P 5000反应器是一种单晶圆多过程模块，配有离子束增强（IBE）、溅射沉积和ECR等离子体蚀刻组件。这些功能的存在简化了两步流程的组合，为用户提供了更大的灵活性。AMAT P5000的ECR等离子体源是低温沉积过程的理想选择，也是处理敏感易碎基板而不会引起热损伤的理想选择。它为用户提供了包括高沉积速率、低等离子体密度和精确可控性在内的过程控制属性的组合。此外，ECR等离子体源的高均匀性和可控性使其成为薄膜沉积过程的理想选择。反应堆中P-5000 IBE源与ECR等离子体源同时工作，允许用户同时沉积和蚀刻。这使用户能够在一个步骤中完成沉积和蚀刻过程,从而提高整个过程的生产率。AMAT P 5000反应器也可用于先进的溅射沉积过程。它的溅射过程对线性和非线性材料沉积都是有效的，精确地包含在腔内。溅射沉积法对于创建十纳米或以下的层厚度是有效的，也可用于创建优越的材料均匀性。最后,APPLIED MATERIALS P5000反应堆还配备了多过程模块（MPM）。MPM模块的设计使薄膜，如透明氧化物和金属的高级沉积。此外，MPM能够进一步减少基板对基板温度的变化，从而能够生产可靠和高性能的产品。综上所述,应用材料P-5000反应堆是一种功能强大、可靠的装置.AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000凭借其ECR等离子体源技术、实现精确温度控制的能力和单步组合多过程的能力,非常适合各种半导体和光电制造任务。