二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #177998 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是为等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设计的超高真空沉积（UHVD）设备。它是当今先进的半导体制造中使用的一种工具，使薄膜的沉积能够用于生产半导体、显示器和消费产品中使用的其他器件。该系统在沉积介电膜和金属膜方面具有优异的性能，适用于各种应用。AMAT P-5000反应堆设计用于快速高效的UHVD工艺能力,使用户能够在不产生杂质或冲突的情况下精确控制成分的情况下沉积薄膜。它具有出色的均匀性、步长覆盖率和厚度控制,是当今复杂电子设备生产的关键特征。此单元具有高级内部优化过程,可将关键过程参数保持在最佳级别。它利用高效的电容耦合功率单元，确保功率的均匀分配，以促进高沉积速率。应用材料P 5000反应堆具有多个场式电感耦合等离子体源，能够提供高达1瓦的射频功率。它还提供精确的温度控制,范围在-150至600摄氏度之间。这台机器包括一个内置的诊断温度控制器，它提供了工艺温度的精确测量。使用者也可以手动调整环境来量身定制每一个胶片沉积。P 5000反应堆提供先进的安全特性，包括一个自动压力调节器和一个惰性气体毯子。它采用远程报警和自动关闭功能设计，确保工具的安全运行。P-5000反应堆具有特殊的多功能性，因为它能够沉积电介质、金属和氮化物、氧化物和聚合物。它非常适合于光致抗蚀剂的沉积和半导体器件的制造。这一资产也适用于沉积铂金属，这在电线和接触过程中是必不可少的。总体而言，P5000反应堆是一个先进可靠的模型，提供卓越的过程控制和性能。其卓越的特性和功能使其成为当今复杂应用程序的理想工具。