二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #188664 待售
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ID: 188664
晶圆大小: 6"
SACVD system, 6"
(2) Chambers (configured for 3)
Storage elevator with (15) slots
PLIS
TEOS only
(2) OEM 12B power supplies.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种高效的金属蚀刻反应器,旨在提供对材料蚀刻过程的精确控制。这种最先进的机器是一种先进的蚀刻工具,专门为耐用而设计,为高通量蚀刻要求提供了经济的解决方桉。广泛应用于航空航天、汽车、半导体、薄膜、电子和医疗设备等制造工艺应用。AMAT P-5000提供高达每小时300个晶圆的快速处理能力。APPLICED MATERIALS P 5000利用专有的AMAT技术,在一系列工艺模块中具有统一的蚀刻和非常低的蚀刻速率变化。AMAT独特的蚀刻特性P5000提供非常均匀的蚀刻结果,几乎没有颗粒污染或薄膜分层。该工艺包括独特的气体喷射设备,在正面和背面蚀刻应用中均能产生均匀的蚀刻效果。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000提供了广泛的工艺选项。APPLIED MATERIALS P5000具有两级旋转晶片载波系统。这使得可以同时处理两个晶片,允许在多个位置更快的等离子体处理。此外,P-5000还支持每个晶圆最多400秒的处理时间,从而允许复杂的蚀刻过程(如通过孔伸长)。AMAT P 5000还有一个高精度的等离子体输送单元,提供对反应性离子蚀刻和化学蚀刻的精确控制。本机由专利等离子体源和专利先进蚀刻装置组成,并对晶圆位置进行流体控制。这与烟囱和工艺气体喷射器的精确同步相结合,可以实现精确的蚀刻速率和均匀的蚀刻深度。APPLIED MATERIALS P-5000旨在通过定制模块降低成本并提高吞吐量。可选择的模块,包括气体注入环模块、反应性离子蚀刻模块、湿蚀刻模块和能量收集模块,以提供过程灵活性并减少停机时间。该工具还具有若干安全和保护功能,如集成脆化资产、先进的化学蚀刻跟踪模型和碰撞加热设备。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000是一种高度先进、可靠且具成本效益的蚀刻工具。它为各种制造工艺提供了高效、均匀的蚀刻结果、高处理速度和广泛的工艺选择。通过其可自定义的模块,P 5000可以配置为满足最苛刻的生产要求。
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