二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #189955 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是一种化学气相沉积（CVD）系统,用于在各种基板上生长薄膜,作为集成电路、半导体器件和相关材料制造的一部分。AMAT P-5000专为纳米级薄膜的高质量沉积而设计，具有亚微米线宽变化和大基板均匀性。APPLIED MATERIALS P 5000具有广泛的工艺灵活性,可用于生产各种系统和组件,如逻辑、内存、显示器和光伏设备。P5000系统的基本概念是位于等离子体源和基质室之间的沉积室。该工艺气体被引入室内并进入等离子体源，在那里被激发并分解成反应性物质，然后直接对准底物产生薄膜。与其他CVD系统相比,P-5000具有多种优势,包括更高的吞吐量和改进的一致性和精度,从而提高了性能。其处理器控制的等离子体源具有独立控制射频功率和偏压的能力，从而产生不同密度和能量的等离子体。这与有助于降低腔室中噪声和干扰的背景水平的双屏蔽相结合，可以提高吞吐量和高质量的薄膜。AMAT P 5000还改进了温度监测和控制，使得薄膜具有更好的均匀性成为可能。利用大面积加热器和K型热电偶进行精确的温度控制和监测。此外，腔室的双不锈钢壁形成导电屏蔽层，允许更稳定的温度，更低的热梯度和更大面积的基板均匀性。APPLICED MATERIALS P-5000还提供了脉冲沉积选项,可降低沉积过程中基板上的温度和应力,并显着减少生长薄膜所需的时间。反应物源的脉冲是由处理器控制的等离子体源实现的，允许对薄膜沉积速率的精确控制，同时显着降低能耗和基板损伤。所有这些功能都有助于将P 5000评估为同行中的优质CVD系统,为各种材料提供最佳的性能和吞吐量组合。这是一个理想的设备，对于那些寻找一个可靠和高效的CVD反应堆为他们的生产需求。