二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #192914 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种高效、柔性的等离子体化学气相沉积（CVD）反应器，用于制造微电子元件。该系统在可靠的平台上提供射频、直流或脉冲等离子体沉积，直接沉积在各种基板、结构和构型上。AMAT P-5000反应器利用电子回旋共振（ECR）等离子体技术，能够产生高能、40兆瓦（MW）的ECR放电。此外,APPLIED MATERIALS P 5000还配有加热差速泵系统,可提供独立搅拌、可编程的腔室压力速率,并确保整个过程的均匀流动和均匀沉积。APPLIED MATERIALS P5000反应堆以闭环配置运行，将反应性气体与等离子体功率结合，形成一个真空过程室，该室被泵压连续排出。这种环境允许精确控制过程参数,如压力、功率密度和温度,从而确保可重复性和可重现结果。此外,APPLICED MATERIALS P-5000集成的计算机控制功能允许对腔室内的工作温度和压力进行实时监测和调整,以确保最佳反应条件,从而改善过程控制并缩短运行时间。P-5000中使用的工艺材料以多种形状提供，包括晶圆、基材和颗粒，尺寸范围从几nm到多mm不等。因此，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆具有多用途能力，能够提供几乎适合任何类型陶瓷结构的沉积。AMAT P5000反应堆设计方便用户，满足高密度存储器、复杂光网和微电路等多种应用的目标沉积水平。严格的设计确保了极好的一致性和过程可重复性，以保证质量和可靠性以及资源的有效利用。而且，AMAT P 5000可与多种气体组合一起使用，从干蚀刻到氧化物蚀刻，再到氮化物蚀刻，并有多种批式烤箱配置，允许各种材料错综复杂的沉积。总之，P5000 CVD反应器是一种先进的沉积工具，在可靠和高效的平台上提供各种沉积能力和工艺材料。该系统旨在通过精确的过程控制确保结果的质量和可重复性，是研究和行业应用的绝佳选择。