二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #200769 待售

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ID: 200769
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Etcher, 8" (4) Chamber system Chambers: A-D with gas panel (4 etch with transfer chamber); RF Chemicals: N2, Ethylene Glycol, He, Freon, O2, Argon, Carbon Tetrafluoride No pumps 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是用于薄膜沉积的化学气相沉积(CVD)设备。它是一种多功能工具,能够沉积各种材料,包括氧化物、氮化物和金属。该系统利用化学工艺生产高质量薄膜,并提供工艺控制和灵活性。AMAT P-5000反应堆是最流行的CVD工具之一。该装置是为研发和工业生产优质沉积物而设计的。APPLIED MATERIALS P 5000是一款全自动机器,具有用户友好的图形界面和触摸屏技术。它设计用于洁净室或小型实验室。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆工具由几个组件组成。第一个也是最重要的是主反应堆,它位于真空室内。在主反应堆内部,加热的气体被输送并反应生成所需的薄膜。二级系统包括用于主动气体输送的淋浴头、用于加热反应室的源等离子体,以及用于确定沉积物均匀性的各种探测器。应用材料P5000资产能够进行广泛的沉积过程。这些包括金属、氧化物和氮化物的物理气相沉积(PVD)。P5000反应器高效运行,能够生产高均匀性、小应力的优质薄膜。该模型还提供了可编程配方和高级工艺控制,允许用户自定义沉积参数以获得可重复、高质量的结果。P5000反应器的用途也非常广泛,可用于各种介质和导电材料的溅射沉积、半导体薄膜的化学气相沉积以及聚合物和聚合物复合材料的气相沉积等一系列应用。因此,它被广泛用于生产集成电路和其他技术。总体而言,AMAT P5000反应器是一种功能强大、用途广泛的薄膜沉积工具。它提供过程控制、灵活性和可重复的高质量结果。P-5000设备具有用户友好的界面和自动化的操作,是优质胶片研发和工业生产的理想选择。
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