二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293587974 待售

ID: 293587974
晶圆大小: 8"
Etcher, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种半导体加工工具,用于将各种材料的薄层沉积到基板上。该反应堆的设计目的是提供精确的过程控制,以及在每一个基板层上一致的均匀性。这是通过结合先进的气体输送系统和可独立操作的多个腔室来实现的。AMAT P-5000工艺室是反应堆的主要部分,为圆柱形室,直径12英寸,高度16英寸。该腔室由不锈钢构成,具有超过10-9 Torr的高真空能力。在腔室内部,基板安装在支架上,一对热电极在腔室顶部成角度。基板加热是通过使用温度范围高达1000 °C的热碳化硅(SiC)加热器实现的。基板架与热电极连接到基座电源,可进行精确的温度控制,并提供稳定的温度范围。APPLIED MATERIALS P 5000包括一个气体输送系统(GDS),由三个可控气体阀和三个气体管路组成。GDS允许气体以预定的速率和浓度注入腔室。这些气体用于制造各种工艺化学物质,具体取决于所沉积的材料。然后,气体通过通风管从腔室排出,从而能够精确控制腔室大气。P 5000还包括另外两个加工室,通常被称为"淋浴头"和"大马士革"室。淋浴室用于在基板表面沉积薄层材料。大马士革腔室用于用多种材料和化合物对底物进行图样化,从而形成特定的图样。为了确保所有基板和腔室的沉积过程参数一致,P-5000还收集了详尽的仪器。这包括压力表、质量流量计、温度传感器和椭圆仪。所有这些组件用于监测工艺条件,并根据需要调整腔室气氛和操作参数。总体而言,P5000反应堆是一种高度先进和精确的半导体加工工具,它提供了卓越的过程控制和跨基板的均匀性。它非常适合在具有特定图样的复杂基板上制造极薄的层,能够处理各种材料组合和工艺化学。
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